常用的氣相色譜載氣包括氦氣、氫氣和氮氣。也可以選擇氬氣，但應(yīng)用很少。

    下圖顯示了 He、H2 和 N2 的 Van Deemter 曲線。Van Deemter 曲線繪制了 x 軸上載氣線速度 (u) 與 y 軸上理論塔板數(shù)對應(yīng)高度（HETP 或 H）的關(guān)系圖。載氣的z佳線速度出現(xiàn)在其 Van Deemter 曲線的最小 H 值處。在此速度下，縱向擴散、渦流擴散和傳質(zhì)阻力造成的譜帶展寬效應(yīng)大幅減小，因此可以獲得更尖銳的色譜峰。

    氦氣是目前為止應(yīng)用zui廣泛的氣相色譜載氣，因為它具有惰性，能夠在一定的時間內(nèi)實現(xiàn)良好的分離。

    氫氣的色譜性能與氦氣相似，但其線速度更高。此外，其 Van Deemter 曲線隨著速度的加快變得更加平坦，這使得氫氣成為快速氣相色譜分析應(yīng)用的常用載氣。

    氮氣可以產(chǎn)生JI尖銳的峰，但需要線速度極低才能實現(xiàn)，并且與氦氣和氫氣相比，隨著速度加快，峰展寬減輕得更快。這通常導(dǎo)致使用氮氣時分析時間較長，除非在更高的速度下展寬仍然可以達(dá)到目標(biāo)峰的分離要求。

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